特許
J-GLOBAL ID：200903087495098722
位置決めステージ装置およびこれを用いた露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-301147
公開番号（公開出願番号）：特開平7-153668
出願日： 1993年11月05日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：
【要約】【目的】 露光中のウエハマスクを効果的に冷却する。【構成】 ウエハ保持盤9に保持されたウエハW1 は、マスク保持盤6に保持されたマスクM1 を通して照射されるSR-X線L1 によって露光される。マスク保持盤6はマスク温調ベース4と一体である複数のマスク板バネ5によって弾力的に支持されており、マスク温調ベース4は温調ライン4cから供給される温調流媒によって冷却され、これと一体であるマスク冷却ブロック7を冷却する。マスク冷却ブロック7はマスク保持盤6の側面に対向し、微小間隙を介してマスク保持盤6を冷却する。
請求項（抜粋）：
台盤と一体である弾性部材によって露光室内に支持された保持盤と、該保持盤に近接する少くとも1個の冷却部材と、これを冷却する冷却手段を有することを特徴とする位置決めステージ装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 9/00
, G21K 5/02
, H01L 21/68
