特許
J-GLOBAL ID:200903087498595190

アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鵜沼 辰之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-179908
公開番号(公開出願番号):特開平9-033946
出願日: 1995年07月17日
公開日(公表日): 1997年02月07日
要約:
【要約】【目的】 アクティブ素子への光を遮光する遮光膜と対向電極を同一の工程で形成すること。【構成】 ガラス基板11上に遮光膜5と対向電極4とを同一の材料を用いて同一の工程で形成し、薄膜トランジスタ6の半導体活性層15に接続された画素電極3と対向電極4間に電圧を印加して液晶分子31を配向し、ガラス基板11側から薄膜トランジスタ6側へ入射する光を遮光膜5により遮蔽する。
請求項(抜粋):
液晶分子を含む液晶層と、液晶層を間にして相対向して配置された一対の基板と、前記基板の外側に配置された偏光板と、前記一対の基板のうち一方の基板と前記液晶層との間に配置されて走査電極と信号電極を有し半導体活性層が積層されたアクティブ素子と、前記一対の基板のうち一方の基板と前記液晶層との間に積層されて前記アクティブ素子に接続された画素電極と、前記アクティブ素子の走査電極と相対向して前記一方の基板と前記アクティブ素子との間に配置されて前記アクティブ素子への光の入射を阻止する遮光膜と、前記一方の基板を基準に前記遮光膜と同一平面上に配置された対向電極とを備えているアクティブマトリクス型液晶表示装置。
IPC (3件):
G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1335 ,  G02F 1/1343
FI (3件):
G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1335 ,  G02F 1/1343
引用特許:
出願人引用 (1件)

前のページに戻る