特許
J-GLOBAL ID:200903087499243441
位置制御ユニットを含む試料液体分析システム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
朝日奈 宗太 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-371411
公開番号(公開出願番号):特開2002-228659
出願日: 2001年12月05日
公開日(公表日): 2002年08月14日
要約:
【要約】【課題】 誤った位置決めを回避し、ユーザに誤りを気づかせる分析システムおよび分析方法を提供する。【解決手段】 テストエレメントの分析エリアが分析ユニットに関連して正しく位置決めされているかどうかをチェックするための位置制御ユニットをさらに備え、該位置制御ユニットが、テストエレメントの分析エリアを照射するための光源と、エリアから反射された光を検出するための検出器と、評価ユニットとからなり、前記光源および検出器が、検出器において鏡面反射された放射光の光強度が、テストエレメントが正確に位置決めされたときと不正確に位置決めされたときとで異なるように互いに関連して位置決めされ、また前記評価ユニットが、検出器における光強度に基づいてすべての誤った位置決めを認識する分析システムおよび分析方法。
請求項(抜粋):
分析されるテストエレメント(10)が分析ユニット(20)に関連して分析位置にホルダ(21、22、120、140)によって位置決めされる分析ユニット(20)を用いてテストエレメントを評価することによって試料液体を分析するためのシステムであり、テストエレメントの分析エリアが分析ユニットに関連して正しく位置決めされているかどうかをチェックするための位置制御ユニットをさらに備えてなるシステムであって、該位置制御ユニットが、テストエレメントのあるエリア、好ましくは分析エリア(11)を照射するための光源(30、2)と、前記エリアから反射された光を検出するための検出器(31、131)と、評価ユニットとからなり、前記光源および検出器が、検出器において鏡面反射された放射光の光強度が、テストエレメントが正確に位置決めされたときと不正確に位置決めされたときとで異なるように互いに関連して位置決めされ、また前記評価ユニットが、検出器における光強度に基づいてすべての誤った位置決めを認識するシステム。
IPC (5件):
G01N 33/52
, G01N 21/01
, G01N 21/27
, G01N 21/78
, G01N 33/66
FI (5件):
G01N 33/52 B
, G01N 21/01 Z
, G01N 21/27 B
, G01N 21/78 A
, G01N 33/66 D
Fターム (29件):
2G045AA13
, 2G045CA25
, 2G045CA26
, 2G045DA31
, 2G045FA11
, 2G045GC11
, 2G045HA10
, 2G045HA14
, 2G054AA07
, 2G054AB05
, 2G054CA25
, 2G054CE01
, 2G054EA05
, 2G054FA20
, 2G054FA32
, 2G054GE06
, 2G054JA20
, 2G059AA05
, 2G059AA06
, 2G059BB04
, 2G059BB13
, 2G059CC16
, 2G059CC20
, 2G059DD13
, 2G059EE02
, 2G059GG02
, 2G059JJ11
, 2G059KK01
, 2G059LL01
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭63-040840
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特開昭63-040840
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