特許

J-GLOBAL ID：200903087502763885

レジスト組成物およびそれを用いたパタン形成方法

発明者： 逆水 登志夫 ,  新井 唯 ,  白石 洋
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-237525
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083078
出願日： 1996年09月09日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】各種の放射線に対して高感度で、解像度,耐熱性,現像性及びパタン形状に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】レジスト組成物が、高分子樹脂マトリックスと露光により誘起される反応によって現像媒体親和性物質に変性する化合物を含み、所定の現像媒体に対する高分子樹脂マトリックスのみの溶解速度が、高分子樹脂マトリックス100重量部に対し現像媒体親和性物質に変性後の化合物を10重量部含む組成物の所定の現像媒体に対する溶解速度の5分の1以下であるレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

所定の現像媒体を用いて現像することにより、パタン露光部を選択的に除去することで所望のポジ型パタンを得るレジスト組成物において、上記レジスト組成物が、高分子樹脂マトリックスと露光により誘起される反応によって現像媒体親和性物質に変性する化合物を含み、所定の現像媒体に対する高分子樹脂マトリックスのみの溶解速度が、高分子樹脂マトリックス100重量部に対し現像媒体親和性物質に変性後の化合物を10重量部含む組成物の上記所定の現像媒体に対する溶解速度の5分の1以下であることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R