特許
J-GLOBAL ID：200903087523209250

NDフィルタの製造方法及びNDフィルタ、並びにこれらのNDフィルタを有する光量絞り装置及びカメラ

発明者：
内山 真志

内山 真志 について

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柳 道男

柳 道男 について

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若林 孝幸

若林 孝幸 について

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石井 史江

石井 史江 について


出願人/特許権者：
キヤノン電子株式会社

キヤノン電子株式会社 について


代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-220770
公開番号（公開出願番号）：特開2004-061900
出願日： 2002年07月30日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：
【課題】光の散乱による画質の劣化が生ぜず、高画質化に対応することが可能となり、各濃度においては分光特性がフラットなグラデーション濃度分布を有するNDフィルタを提供する。【解決手段】プラスチック基板102上に少なくとも2種類以上の膜を成膜してNDフィルタを製造するに際し、最表層以外の膜をグラデーション濃度分布を形成するためにスリット型マスク106を基板と一体的にドーム上を公転させて成膜する一方、最表層の膜をマスク106を用いずに一定膜厚に成膜する。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
基板上に少なくとも2種類以上の膜を成膜してNDフィルタを製造するに際し、最表層以外の膜をグラデーション濃度分布を形成するためにスリット型マスクを前記基板と一体的にドーム上を公転させて成膜する工程と、最表層の膜を前記マスクを用いずに成膜する工程とを有することを特徴とするNDフィルタの製造方法。
IPC (3件)：
G02B5/00 ,  G03B9/02 ,  G03B11/00
FI (3件)：
G02B5/00 A ,  G03B9/02 A ,  G03B11/00
Fターム (8件)：
2H042AA06 ,  2H042AA11 ,  2H042AA12 ,  2H042AA22 ,  2H080AA31 ,  2H080DD00 ,  2H083AA05 ,  2H083AA26
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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