特許
J-GLOBAL ID：200903087539754290

高純度水性シリカゾルの製造方法

発明者：
中山 和洋

中山 和洋 について

, 
中島 昭

中島 昭 について


出願人/特許権者：
触媒化成工業株式会社

触媒化成工業株式会社 について


代理人 (1件)： 石田 政久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-025785
公開番号（公開出願番号）：特開2006-213541
出願日： 2005年02月02日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：
【課題】 Na,Kなどの不純物が極めて少なく、安定性にも優れた水性シリカゾルの製造方法を提供する。【解決手段】 (1)シード液の製造工程: シリカ濃度が3〜23重量%の水性シリカゾルに必要に応じて酸を加えることにより、そのpHを1.8〜6.0の範囲に調整し、40〜300°Cで加熱してpHを3.4〜7.8に調整し、強塩基性陰イオン交換体に接触させ、更に強酸性陽イオン交換体に接触させてシード液を製造する、(2)ビルドアップ工程: 前記シード液にアルカリを加えてpHを10〜12.5の範囲に調整し、温度を20〜98°Cに保持しながら、酸性珪酸液を連続的にあるいは断続的に添加して、シリカ微粒子がビルドアップした水性シリカゾルを製造する、および、(3)不純物除去工程: 前記ビルドアップした水性シリカゾルに酸を加えてpHを0〜3.0の範囲に調整し、40〜300°Cで加熱した後に、強塩基性陰イオン交換体に接触させ、更に強酸性陽イオン交換体に接触させて水性シリカゾル中の不純物を除去する、からなる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
次の(1)シード液の製造工程、(2)ビルドアップ工程、および(3)不純物除去工程からなる高純度水性シリカゾルの製造方法。 (1)シード液の製造工程: シリカ濃度が3〜23重量%の水性シリカゾルに必要に応じて酸を加えることにより、そのpHを1.8〜6.0の範囲に調整し、40〜300°Cで加熱してpHを3.4〜7.8に調整し、強塩基性陰イオン交換体に接触させ、更に強酸性陽イオン交換体に接触させてシード液を製造する。 (2)ビルドアップ工程: 前記シード液にアルカリを加えてpHを10〜12.5の範囲に調整し、温度を20〜98°Cに保持しながら、酸性珪酸液を連続的にあるいは断続的に添加して、シリカ微粒子がビルドアップした水性シリカゾルを製造する。 (3)不純物除去工程: 前記ビルドアップした水性シリカゾルに酸を加えてpHを0〜3.0の範囲に調整し、40〜300°Cで加熱した後に、強塩基性陰イオン交換体に接触させ、更に強酸性陽イオン交換体に接触させて水性シリカゾル中の不純物を除去する。
IPC (1件)：
C01B 33/148
FI (1件)：
C01B33/148
Fターム (9件)：
4G072AA28 ,  4G072CC01 ,  4G072EE01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH18 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ50 ,  4G072MM08 ,  4G072PP20
引用特許：
出願人引用 (11件)
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