特許
J-GLOBAL ID：200903087549526105
露光装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-124597
公開番号（公開出願番号）：特開平7-221012
出願日： 1994年05月13日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】 大型のマスクに対しても転写パターンの焦点ずれの少ない露光装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明の露光装置は、ほぼ等倍の投影光学系(22)を介して第1の基板(21)上に形成されたパターンを第2の基板(23)上に投影露光する露光装置において、前記第1の基板および前記第2の基板の位置情報を検出するための位置検出手段(1A〜8A、1B〜8B、10、11)と、前記位置検出手段が検出した位置情報に基づいて、前記第1の基板と前記第2の基板との間隔を実質的に一定に保つように、前記第1の基板および前記第2の基板のうち少なくとも一方の基板の位置決めを制御するための位置決め制御手段(24、28)を備えている。
請求項（抜粋）：
ほぼ等倍の投影光学系を介して第1の基板上に形成されたパターンを第2の基板上に投影露光する露光装置において、前記第1の基板および前記第2の基板の位置情報を検出するための位置検出手段と、前記位置検出手段が検出した位置情報に基づいて、前記第1の基板と前記第2の基板との間隔を実質的に一定に保つように、前記第1の基板および前記第2の基板のうち少なくとも一方の基板の位置決めを制御するための位置決め制御手段を備えていることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 517
, H01L 21/30 524
, H01L 21/30 526 B
