特許

J-GLOBAL ID：200903087550030970

高分子シートの製造方法及び製造装置並びに光学用高分子シート

発明者： 江口 敏正 ,  田中 順二
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-287497
公開番号（公開出願番号）：特開2001-105539
出願日： 1999年10月08日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
要約：

【要約】【課題】 表面平滑性に優れた高分子シートの連続製造法、製造装置及びこれを用いた光学用高分子シートを提供すること。【解決手段】 分子シート原反上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布またはラミネートし、該紫外線硬化性樹脂組成物が軟化した状態で表面粗さの最大(Rmax)がRmax≦0.1μmの平滑面を有するロールに密着させて紫外線を照射し、ロール平滑面を転写、成形する高分子シートの製造方法。

請求項（抜粋）：

高分子シート原反上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布またはラミネートし、該紫外線硬化性樹脂組成物が軟化した状態で表面粗さの最大(Rmax)がRmax≦0.1μmの平滑面を有するロールに密着させて紫外線を照射し、ロール平滑面を転写、成形することを特徴とする高分子シートの製造方法。

IPC (3件)：

B32B 27/16 ,  B32B 27/00 103 ,  G02F 1/1333 500

FI (3件)：

B32B 27/16 ,  B32B 27/00 103 ,  G02F 1/1333 500

Fターム (20件)：

2H090JB03 ,  2H090JC01 ,  2H090JD04 ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AK25J ,  4F100AK53J ,  4F100AK54A ,  4F100AL01 ,  4F100BA02 ,  4F100DD07B ,  4F100EH462 ,  4F100EJ392 ,  4F100EJ542 ,  4F100EK00 ,  4F100GB90 ,  4F100JB14B ,  4F100JK15 ,  4F100JK15B ,  4F100YY00B