特許
J-GLOBAL ID：200903087551130820
光学薄膜の製造方法および光学薄膜
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-025020
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221502
出願日： 1997年02月07日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】【課題】 ゾル-ゲル法を用いて光学薄膜を形成する場合に、基板形状の選択性を広げるとともに容易に均一な膜質・膜厚の光学薄膜を形成する方法を提供する。【解決手段】 基板上に光学薄膜材料ゾルを塗布し、ゲル膜を堆積させた後、液体に浸漬し、前記液体の温度及び圧力を臨界状態以上にして前記液体を気化乾燥させることを特徴とする光学薄膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
基板上に光学薄膜材料ゾルを塗布し、ゲル膜を堆積させた後、液体に浸漬し、前記液体の温度及び圧力を臨界状態以上にして前記液体を気化乾燥させることを特徴とする光学薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 1/10
, B05D 1/36
, B05D 5/02
, C09D 1/00
G02B 1/10 Z
, B05D 1/36
, B05D 5/02
, C09D 1/00
