特許
J-GLOBAL ID：200903087561397760
トリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
苗村 新一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-047454
公開番号（公開出願番号）：特開2001-233885
出願日： 2000年02月24日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：
【要約】【課題】イミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホランとオキシ塩化りんとを反応させてトリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドを製造する方法において、簡便な精製法で実施でき、化学量論量以上に該ホスホランを使用でき、工業的により現実的な方法で、高収率で且つ高純度のトリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドを得る方法を提供する。【解決手段】脂肪族炭化水素類を溶媒として、イミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホランとオキシ塩化りんとを特定の反応条件下において反応させ、トリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドと同時に副生するアミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムクロリドと、溶媒に不溶な副生物を含む反応液を得て、該反応液から、該クロリドと該副生物を同時に固液分離で除き、その溶液を蒸留する。
請求項（抜粋）：
イミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホランとオキシ塩化りんとを反応させてトリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドを製造するに際し、脂肪族炭化水素類を溶媒として用い、イミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホランのオキシ塩化りんに対するモル比を6を超え10以下、反応温度を40°Cないし180°Cで反応させて、トリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドと同時に副生する固体のアミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムクロリドとを含む反応液を得て、該反応液からアミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムクロリドと溶媒に不溶の副生成物とを同時に固液分離で除き、得られた溶液中の溶媒と過剰に含まれているイミノトリス(ジメチルアミノ)ホスホランを留去して除き、トリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドを得ることを特徴とするトリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスフィンオキシドの製造方法。
Fターム (10件)：
4H050AD11
, 4H050AD17
, 4H050BA90
, 4H050BB11
, 4H050BC10
, 4H050BC19
, 4H050BD80
, 4H050WA12
, 4H050WA15
, 4H050WA27
