特許

J-GLOBAL ID：200903087561499830

K型偏光子の製造方法

発明者： ファンスラー,デュアン ディー. ,  ジョーンズ,トッド ディー. ,  ガダム,バブ エヌ. ,  フィッツシモンズ,ロバート ティー. ,  ヘイルマン,スティーブン エム. ,  カエル,ジョン ジェイ.
出願人/特許権者： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-568450
公開番号（公開出願番号）：特表2005-517974
出願日： 2002年12月09日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

配向ビニルアルコールポリマーフィルム層と、光酸発生剤を含む酸供与層とを含む物品を、ビニルアルコールポリマーをビニルアルコール/ポリ(アセチレン)コポリマーへと部分的に脱水するのに十分な温度で放射エネルギーに曝露することによる偏光子の製造方法が開示される。

請求項（抜粋）：

偏光子の製造方法であって、 プレ偏光物品を放射エネルギーに曝露するステップを含み、 前記プレ偏光物品が、 一軸配向ビニルアルコールポリマーフィルム層と、 光酸発生剤を含む酸供与層と、 を含む方法。

IPC (3件)：

G02B5/30 ,  C08F8/00 ,  C08F16/06

FI (3件)：

G02B5/30 ,  C08F8/00 ,  C08F16/06

Fターム (28件)：

2H049BA02 ,  2H049BA42 ,  2H049BB43 ,  2H049BB50 ,  2H049BC05 ,  2H049BC09 ,  2H049BC22 ,  4J100AD02P ,  4J100AG04R ,  4J100AL04Q ,  4J100BA01H ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA31 ,  4J100HA31 ,  4J100HA62 ,  4J100HB63 ,  4J100HC05 ,  4J100HC63 ,  4J100HC69 ,  4J100HC71 ,  4J100HC78 ,  4J100HD19 ,  4J100HE22 ,  4J100HE26 ,  4J100HE32 ,  4J100HE41 ,  4J100JA32

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 偏光ポリビニレンシートの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-338235   出願人：ポラロイドコーポレイション
• 偏光フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-069664   出願人：株式会社クラレ
• 特開平3-252606
  
• 特開平3-252606
  
• 反射防止膜、反射防止膜を含む積層体、および反射防止膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-202776   出願人：ジェイエスアール株式会社