特許

J-GLOBAL ID：200903087565140055

板状試料表面の処理方法

発明者： ▲高▼原 洋一 ,  佐藤 孝雄 ,  岡 齊
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-082255
公開番号（公開出願番号）：特開平8-276163
出願日： 1995年04月07日
公開日（公表日）： 1996年10月22日
要約：

【要約】【構成】流体処理中の板状試料に対して、処理流体および不活性ガスの流量を、試料の回転により発生する下降気流の流量以上にすることによって、試料への再汚染を防止する。【効果】回転処理中に装置内で発生する異物やミストの再汚染を防止できる。

請求項（抜粋）：

板状試料を、その外周あるいは裏面を介して機械的に保持しながら回転し、流体で試料表面を処理する流体処理方法であって、前記試料の回転によって生じる流体の流量以上の流体を試料表面に供給することを特徴とする試料表面の処理方法。

IPC (5件)：

B08B 3/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 351 ,  H01L 21/306

FI (7件)：

B08B 3/02 B ,  H01L 21/304 341 G ,  H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/306 J

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭58-046642