特許

J-GLOBAL ID：200903087577426892

高圧処理装置

発明者： 井上 陽一 ,  山形 昌弘
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-117701
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313764
出願日： 2001年04月17日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：

【要約】【課題】 クリーンルーム内に設置可能な高圧処理装置において、必要なタイミングで薬液を効率よく供給することができ、コスト低減に有効な高圧処理装置を提供すること。【解決手段】 被処理体に加圧下で高圧流体と高圧流体以外の薬液とを接触させて被処理体上の不要物質の除去処理を行うための装置であって、複数の高圧処理チャンバーと、これらの高圧処理チャンバーに高圧流体を供給するための共通の高圧流体供給手段と、処理後に前記高圧処理チャンバーから排出される高圧流体と薬液との混合物から気体成分を分離するための分離手段と、前記各高圧処理チャンバーに対し、被処理体を出入するための共通の出入手段とを備え、高圧処理チャンバーに薬液を供給するための薬液供給手段を、各高圧処理チャンバー毎に設けた高圧処理装置である。

請求項（抜粋）：

被処理体に加圧下で高圧流体と高圧流体以外の薬液とを接触させて被処理体上の不要物質の除去処理を行うための装置であって、複数の高圧処理チャンバーと、これらの高圧処理チャンバーに高圧流体を供給するための共通の高圧流体供給手段と、処理後に前記高圧処理チャンバーから排出される高圧流体と薬液との混合物から気体成分を分離するための分離手段と、前記各高圧処理チャンバーに対し、被処理体を出入するための出入手段とを備え、高圧処理チャンバーに薬液を供給するための薬液供給手段を、各高圧処理チャンバー毎に設けたことを特徴とする高圧処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 643 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306 ,  G03F 7/42

FI (5件)：

H01L 21/304 643 Z ,  B08B 3/08 B ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/306 J ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (18件)：

2H096AA25 ,  2H096GA21 ,  2H096HA23 ,  2H096LA01 ,  3B201AA03 ,  3B201BB01 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201CC01 ,  3B201CD22 ,  5F043CC16 ,  5F043DD06 ,  5F043EE07 ,  5F043EE21 ,  5F043EE28 ,  5F043EE31 ,  5F046MA05 ,  5F046MA06