特許
J-GLOBAL ID：200903087590742345
シアリング干渉計の校正方法、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 史旺
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-198901
公開番号（公開出願番号）：特開2004-037429
出願日： 2002年07月08日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】被検物に入射した測定光束の波面を2つに分割する分割手段と、その分割によりずれた2つの波面が成す干渉縞を検出する検出器とを備えたシアリング干渉計のシア方向及び/又はシア量を高精度に実測する。【解決手段】所定の開口パターンを有した指標(15)を、前記分割前の前記測定光束(L)中に挿入して、その指標15の2つの像(15-1,15-2)を検出器(12)上に形成し、前記検出器(12)上での前記2つの像のずれをその検出器(12)の出力から参照し、そのずれに基づいて前記分割手段(11)による波面の分割方向及び/又は分割量を求める。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被検物に入射した測定光束の波面を2つに分割する分割手段と、その分割によりずれた2つの波面が成す干渉縞を検出する検出器とを備えたシアリング干渉計に適用され、そのシアリング干渉計の前記波面の分割方向及び/又は分割量を測定するシアリング干渉計の校正方法であって、
所定の開口パターンを有した指標を分割前の前記測定光束中に挿入することにより、その指標の像を前記検出器上に2つ形成する像形成手順と、
前記検出器上に形成される前記2つの像のずれをその検出器の出力から参照し、そのずれに基づいて前記波面の分割方向及び/又は分割量を求める算出手順と
を有したことを特徴とするシアリング干渉計の校正方法。
IPC (3件)：
G01B9/02
, G01M11/02
, H01L21/027
G01B9/02
, G01M11/02 B
, H01L21/30 516A
2F064AA16
, 2F064EE08
, 2F064GG00
, 2F064GG41
, 2F064GG49
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064JJ01
, 2G086HH06
, 5F046BA03
, 5F046CB05
, 5F046CB17
, 5F046CB25
, 5F046DA13
, 5F046DB01
, 5F046DC10
