特許
J-GLOBAL ID：200903087596368925
積層構造型フォトブリーチング導波路及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-154300
公開番号（公開出願番号）：特開2002-350660
出願日： 2001年05月23日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：
【要約】【課題】 高精度の導波路を簡単かつ低コストで得られる積層構造型フォトブリーチング導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】 各コア層3a-1〜3a-6、3b-1〜3b-6及び各側面クラッド層4a、4bがフォトブリーチング用ポリマ材料で構成されているので、フォトマスクを介しての紫外線照射による露光を1回行うだけで全てのコア層3a-1〜3a-6、3b-1〜3b-6及び全ての側面クラッド層4a、4bを一括形成することができる。この結果、簡易に、低コストで導波路の形成を実現することができる。また、各コア層3a-1〜3a-6、3b-1〜3b-6及び側面クラッド層4a、4bを1回の一括露光で形成することができるので、各コア層3a-1〜3a-6、3b-1〜3b-6及び各側面クラッド層4a、4bの位置精度及び寸法精度を高精度に維持したまま形成することができる。
請求項（抜粋）：
下部クラッド層上に該下部クラッド層より屈折率の高いコア層が形成され、該下部クラッド層上の上記コア層の両側に上記コア層より屈折率の低い側面クラッド層が形成され、上記コア層及び上記側面クラッド層上に上記コア層より屈折率の低い上部クラッド層が形成された導波路本体が透明な基板のいずれか一方の面、あるいは両面に上記コア層の位置が上下で重なるように積層され、上記下部クラッド層、上記コア層、上記側面クラッド層及び上記上部クラッド層がフォトブリーチング材料で構成されていることを特徴とする積層構造型フォトブリーチング導波路。
IPC (3件)：
G02B 6/122
, G02B 6/12
, G02B 6/13
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
2H047KA04
, 2H047KA15
, 2H047MA07
, 2H047PA11
, 2H047PA22
, 2H047PA28
, 2H047QA07
, 2H047TA43
