特許

J-GLOBAL ID：200903087598905200

連続流動接触排水処理装置

発明者： 水澤 巖 ,  山崎 和夫
出願人/特許権者： 前澤化成工業株式会社
代理人 (1件)： 樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-274615
公開番号（公開出願番号）：特開平7-124583
出願日： 1993年11月02日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：

【要約】【目的】 処理槽内での曝気量を少なくでき、処理能力を向上させることができる。処理槽は製作が容易で強度が大きい。【構成】 縦断面が略円形の処理槽1の内部を隔壁3にて第1処理室4と第2処理室5とする。隔壁3の上部に設けた循環流起生部8にそれぞれ対向して第1処理室4と第2処理室5との底部に処理槽1内の排水を循環させ微生物保持担体12を処理室4,5内に撹拌回転させて被処理排水中のBOD物質と気体中の酸素を反応させる曝気装置10を配設する。第2処理室5の上部に設けた排出口13に対向する位置から下方に向ってこの第2処理室5の内面との間に流出間隙を形成する位置まで延出した流出防止仕切板14を設ける。【効果】 微生物保持担体12が均一に流動化してBOD物質と微生物と酸素との接触が極めて良好となる。処理槽は製作的に容易で強度的に優れている。

請求項（抜粋）：

縦断面が略円形の排水処理槽を備え、この処理槽の内部を縦断面に対し隔壁にて左右に互いに連通した二室に仕切り第1処理室と第2処理室とし、前記隔壁の上部に位置して前記第1処理室と第2処理室との上部に突出する循環流起生部を形成し、この循環流起生部にそれぞれ対向して第1処理室と第2処理室との底部に、吹き出す気体により第1処理室と第2処理室とをそれぞれ上昇する気泡が循環流起生部に衝突することにより、処理槽内の排水を循環させ前記第1処理室と第2処理室に収納した微生物保持担体を処理室内に撹拌回転させて被処理排水中のBOD物質と気体中の酸素を反応させる曝気装置を配設し、前記第2処理室の上部に排出口を設け、この排出口に対向する位置から下方に向ってこの第2処理室の内面との間に流出間隙を形成する位置まで延出した流出防止仕切板を設け、前記第1処理室で反応した被処理排水を第2処理室に導き第2処理室で反応させて処理槽外に排出させることを特徴とする連続流動接触排水処理装置。

IPC (2件)：

C02F 3/08 ZAB ,  C02F 3/10 ZAB

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭52-028169
  
• 特開昭63-185495
  
• 特開昭62-191098
  
• 特開平3-258395