特許
J-GLOBAL ID:200903087618530020

検査システム装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 頓宮 孝一 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-208169
公開番号(公開出願番号):特開平5-203580
出願日: 1992年08月04日
公開日(公表日): 1993年08月10日
要約:
【要約】【目的】 表面レベル欠陥を検査及び処理するための検査装置システムを提供する。【構成】 検査すべき物体がまず位置決めされる。レーザ光は少なくとも一方向に偏光されて、次に回転ポリゴンミラーから反射され、対象領域にわたって移動する。複数のファイババンドルを用いて倍増型光電管に戻った反射光が受信且つ導かれる。倍増型光電管はその光を電気信号に変換し、対応付けられるエレクトロニクスはその信号をディジタル化し、製造されるピクセルを追跡する。ピクセルエッジ境界を追跡し、さらに特定のしきい値を越えているか又は適切なものとして応じられるかを決定することによって、対象領域を種々の欠陥について検査することができる。これら欠陥を基準ベースと比較することによって、欠陥とそれゆえに検査されるアイテムを分類する。
請求項(抜粋):
検査すべきアイテムを第1の方向に移動するための手段と、少なくとも1個の光学エネルギー源と、検査すべきアイテムを横切ってその光源を走査するための手段と、検査すべきアイテムを横切って走査すると、走査されたビームが検査すべきアイテムの対象領域に対して所定角度を維持するように、検査すべきアイテムと走査手段との間に位置付けされるテレセントリックレンズと、検査すべきアイテムに対して複数の角度で配置されるとともに、検査すべきアイテムからの走査されたビームの反射光を受光するように作動する複数の光ファイバと、反射光を電気信号に変換するために光ファイバに接続される倍増型光電手段と、電気信号を分析するための処理手段であって、一連の走査ラインから受信される信号と基準値とを比較する処理手段と、を含む検査システム装置。
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平1-121740
  • 特開昭63-193041
  • 特開昭63-143830

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