特許

J-GLOBAL ID：200903087629284986

光導波路素子及び光導波路素子の製造方法

発明者： 長ヶ部 英資 ,  梨本 恵一
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-268054
公開番号（公開出願番号）：特開2001-091778
出願日： 1999年09月22日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：

【要約】【課題】 薄膜光導波路を形成したSrTiO3基板に端面を形成する際に、チッピングの発生を抑制し、良好な光導波路端面を形成することができる光導波路素子の製造方法を提供する。また、SrTiO3基板上に薄膜光導波路が形成された光導波路素子であって、良好な光導波路端面を有し、歩留まり良く製造することができる光導波路素子を提供する。【解決手段】 薄膜光導波路が形成されたSrTiO3基板を、研削面のチッピング発生率が10%以下となるように研削加工することにより、光導波路の端面を形成する。

請求項（抜粋）：

薄膜光導波路が形成されたSrTiO3基板を、研削加工することにより、光導波路の端面を形成する光導波路素子の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/13 ,  G02B 6/122

FI (2件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 A

Fターム (8件)：

2H047KA02 ,  2H047KA03 ,  2H047PA06 ,  2H047PA24 ,  2H047QA03 ,  2H047QA07 ,  2H047TA00 ,  2H047TA42