特許

J-GLOBAL ID：200903087643523977

酸化物薄膜の作製方法

発明者： 南 努 ,  峠 登 ,  片岡 一也
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-320283
公開番号（公開出願番号）：特開平6-166501
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【構成】 ゾルゲル法で酸化物薄膜を作製するに際して、原料に光吸収波長を変える錯化剤を加え、光を照射する。【効果】 光吸収が長波長側にシフトするため、利用可能な光源や光学系の選択範囲が広がる。また、酸化物薄膜の形成のための熱処理が不要である。

請求項（抜粋）：

ゾルゲル法を用いる酸化物薄膜作製方法において、原料に光吸収波長を変える錯化剤を加え、光を照射することにより酸化物薄膜を作製する方法。

IPC (2件)：

C01B 13/14 ,  C01G 25/02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-313329
  
• 特開平3-279221
  
• 特開平3-279220
  
• 特開昭61-097159