特許
J-GLOBAL ID:200903087643523977

酸化物薄膜の作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 古谷 馨 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-320283
公開番号(公開出願番号):特開平6-166501
出願日: 1992年11月30日
公開日(公表日): 1994年06月14日
要約:
【要約】【構成】 ゾルゲル法で酸化物薄膜を作製するに際して、原料に光吸収波長を変える錯化剤を加え、光を照射する。【効果】 光吸収が長波長側にシフトするため、利用可能な光源や光学系の選択範囲が広がる。また、酸化物薄膜の形成のための熱処理が不要である。
請求項(抜粋):
ゾルゲル法を用いる酸化物薄膜作製方法において、原料に光吸収波長を変える錯化剤を加え、光を照射することにより酸化物薄膜を作製する方法。
IPC (2件):
C01B 13/14 ,  C01G 25/02
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 特開平1-313329
  • 特開平3-279221
  • 特開平3-279220
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審査官引用 (4件)
  • 特開平1-313329
  • 特開平3-279221
  • 特開平3-279220
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