特許
J-GLOBAL ID:200903087651264204

地下水の浄化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-080544
公開番号(公開出願番号):特開2004-283760
出願日: 2003年03月24日
公開日(公表日): 2004年10月14日
要約:
【課題】ホウ素やフッ素で汚染された地下水から容易且つ低コストにて汚染物質を除去することが可能な地下水の浄化方法を提供する。【解決手段】地中に地下水浄化層3を設ける。この地下水浄化層3はホウ素及び/又はフッ素の除去成分を有しており、地下水中のホウ素、フッ素がこの除去成分と接触することにより、除去される。汚染物質がホウ素である場合、汚染物質除去成分は、マグネシウム化合物及び/又はジルコニウム化合物である。汚染物質がフッ素である場合は、汚染物質除去成分は、アルミナ、アロフェン及びマグネシウム化合物の少なくとも1種が用いられる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
地中に壁状に形成された、汚染物質除去成分を有した水透過性の地下水浄化層に汚染地下水を透過させることにより地下水を浄化する方法において、 該汚染物質がフッ素及び/又はホウ素であり、 該汚染物質除去成分がマグネシウム化合物、ジルコニウム化合物、アルミナ及びアロフェンの少なくとも1種であることを特徴とする地下水の浄化方法。
IPC (1件):
C02F1/58
FI (2件):
C02F1/58 M ,  C02F1/58 H
Fターム (3件):
4D038AA02 ,  4D038AB25 ,  4D038AB40
引用特許:
審査官引用 (7件)
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