特許

J-GLOBAL ID：200903087660583061

ビス{β-(p-メトキシフェノキシ)エチル}エーテルの製造方法

発明者： 角町 博記 ,  高口 昌之
出願人/特許権者： 株式会社三光開発科学研究所
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-243647
公開番号（公開出願番号）：特開平11-080062
出願日： 1997年09月09日
公開日（公表日）： 1999年03月23日
要約：

【要約】【課題】 感熱記録材料用増感剤として有用な化合物を特殊な薬品、操作法や装置を必要とせず、高収率、高品質で製造する方法を提供する。【解決手段】 一般式(1) X1 -CH2 CH2 -O-CH2 CH2 -X2 (1)[式(1)で、X1 及びX2 は塩素原子又は臭素原子を表わし、同一でも相異なってもよい。]で示されるジ(β-ハロゲノエチル)エーテルと、p-メトキシフェノールとを、塩基の存在下で110°Cないし180°Cの温度で、反応させることにより、構造式(2)【化5】で示されるビス{β-(p-メトキシフェノキシ)エチル}エーテルを製造する。

請求項（抜粋）：

一般式(1) X1 -CH2 CH2 -O-CH2 CH2 -X2 (1)[式(1)で、X1 及びX2 は塩素原子又は臭素原子を表わし、同一でも異なってもよい。]で示されるジ(β-ハロゲノエチル)エーテルとp-メトキシフェノールとを、塩基の存在下で、110°Cないし180°Cで、反応せしめることを特徴とする、構造式(2)【化1】で示されるビス{β-(p-メトキシフェノキシ)エチル}エーテルの製造方法。

IPC (4件)：

C07C 43/205 ,  C07C 41/16 ,  C07C 41/38 ,  C07C 41/40

FI (4件)：

C07C 43/205 A ,  C07C 41/16 ,  C07C 41/38 ,  C07C 41/40