特許
J-GLOBAL ID：200903087663054230
成膜用マスク装置並びにこれを用いた薄膜デバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-105983
公開番号（公開出願番号）：特開2004-311319
出願日： 2003年04月10日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】有機EL素子製造用マスクにおいて、基板にマスクが接触することを防止するとともに、蒸着物の配置位置精度を良好に保持可能とする。【解決手段】固定マスク101と移動マスク102を重ねた状態で保持するマスク保持部200をマスク装置1に設ける。複数枚マスクとすることでマスク強度を持たせる。マスクを色ごとに交換したり、マスク全体を基板に対してスライドさせたりすることなく、基板に近い側の固定マスク101を基板に固定したままで、蒸着源に近い側の移動マスク102だけをスライドさせる機構とする。さらに、マスク保持部200には、基板に直接接触しない移動マスク102の側面から力を加える機構を持たせることにより、重力や熱膨張によるマスク平面から垂直方向に生ずる撓みをキャンセルできる機構を付与する。このようにすることにより、それぞれの画素の位置精度が大画面であっても良好に保持できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
薄膜パターンを基板面上に蒸着により成膜するために使用される成膜用マスク装置であって、
それぞれが所定形状の開口部が所定ピッチで形成された複数枚のマスクと、
前記複数枚のマスクを保持する機構であって、前記複数枚のマスクのうちの前記基板に最も近い位置に配されるマスクを前記基板に対して相対的に固定して保持するとともに、前記複数枚のマスクのうちの前記基板に最も近い位置に配されるマスクを挟んで前記基板とは反対側に配されるマスクの少なくとも1つを交換可能もしくは前記基板に対して相対的に移動可能に保持するマスク保持部と
を備えることを特徴とする成膜用マスク装置。
IPC (4件)：
H05B33/10
, C23C14/50
, H05B33/12
, H05B33/14
H05B33/10
, C23C14/50 F
, H05B33/12 B
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029EA00
, 4K029HA01
, 4K029JA06
