特許
J-GLOBAL ID：200903087680127704
X線発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
大塚 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-316442
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133600
出願日： 1999年11月08日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：
【要約】【課題】 レーザー光を反応空間で多重に交叉させて局在化させ、それによって、光子密度を高く維持し、これを電子ビームと相互作用させてX線を発生させる装置を提供する。【解決手段】 X線発生装置11は、電子ビームEの軸Oを中心に環状に配置された複数の凹面鏡A1,A2...An,B1,B2...Bnから成る対向一対の鏡面群A、Bを有する。凹面鏡Anは、導入されたレーザー光Lを反射して位置Oaを通過させ、鏡面群B中の対応する凹面鏡Bnに反射光L1を入射させる。位置Oaに、反射光L1の重畳した光子密度の高い反応空間Fを形成する。鏡面群Bの凹面鏡Bnは、凹面鏡Anからのレーザー光L1を反射して隣接凹面鏡An+1にレーザー光L2を入射させる。レーザー光Lは順次鏡面群A、Bの円周方向に移動しながら鏡面群A、B間を往復する。レーザー光L1が多重に通過する反応空間Fで、電子ビームEとレーザー光Lとを相互作用させ、X線を発生させる。
請求項（抜粋）：
導入される電子ビームの軸を中心に環状に配置された複数の凹面鏡を有し、互いに相対向して配置された一方の鏡面群及び他方の鏡面群と、これら鏡面群間で往復反射させるべきレーザー光を発生させるレーザー光発生手段と、このレーザー光発生手段により発生されたレーザー光を前記鏡面群へ導入するレーザー光導入手段とを具備し、前記一方の鏡面群に属する各凹面鏡は、入射されたレーザー光を反射して前記電子ビームの軸上の所定の位置を通過し、前記他方の鏡面群中の対応する一の凹面鏡に反射光を入射させるように配置され、それによって前記軸上の所定の位置に反射光を重畳させた光子密度の高い反応空間を形成し、前記他方の鏡面群に属する各凹面鏡は、前記一方の鏡面群中の対応する一の凹面鏡から入射されたレーザー光を反射して前記一方の鏡面群中の対応する一の凹面鏡に所定方向に隣接する一の隣接凹面鏡にレーザー光を入射させるように配置され、それによって、順次鏡面群の円周方向に反射光を移動させるようにし、前記反応空間で、相対論的エネルギを持つ電子ビームとレーザー光とを相互作用させ、X線を発生させることを特徴とするX線発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G21K 5/02 X
, H05G 1/00 J
