特許
J-GLOBAL ID：200903087689955570
パターン形成装置、パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
大場 充
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2004004995
公開番号（公開出願番号）：WO2004-093171
出願日： 2004年04月07日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
パターン形成装置では、金型100によって基板200にパターンを形成した後、金型100を基板200から離型させるに際し、金型100に超音波振動を加えるようにした。また、基板200の表層部のガラス転移温度Tg以上の温度T1に設定した金型100を基板200に押し付け、金型100のパターンを転写した後、金型100をガラス転移温度Tg以下の温度T2まで冷却した後、金型100を基板200から引き離す構成とすることもできる。
請求項（抜粋）：
加工対象物に所定のパターンを形成するための金型と、
前記加工対象物を保持する対象物保持部と、
前記対象物保持部に保持された前記加工対象物に、前記金型を押し付けるプレス機構と、
前記金型または前記対象物保持部に振動を加える加振機構と、
前記対象物保持部に保持された前記加工対象物に、前記金型を押し付けた後、当該金型と前記加工対象物とを離間するときに、前記加振機構により前記金型または前記対象物保持部に振動を加えさせる制御部と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
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