特許

J-GLOBAL ID：200903087690167739

基板処理装置

発明者： 大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-238412
公開番号（公開出願番号）：特開平9-082613
出願日： 1995年09月18日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【課題】 処理液処理部内の雰囲気が搬送手段の移動に伴う気流の影響を受けることがなく、処理液処理部内で発生する臭気、ガス、飛沫等が他の処理部に影響を及ぼさない基板処理装置を提供する。【解決手段】 スピンデベロッパ80の上部を覆うように支柱91、透明パネル92、天板93によって基板処理ブース90が形成され、その内側から開口部OEを覆うようにシャッター機構100が設けられている。シャッター機構100は制御部110の制御によりシャッター開閉アクチュエータ105が駆動し、それによる駆動ピン104の上下動によりシャッタープレート102が昇降する。これにより、スピンデベロッパ80と搬送ロボットとの間の基板Wの受け渡し時に開口部OEが開き、それ以外の時は開口部OEは閉じられる。

請求項（抜粋）：

処理液を用いて基板処理を行うウエット処理部を含んでなる複数の処理部が基板搬送路に沿って配設され、前記基板搬送路に沿って移動する基板搬送手段によって基板を搬送しつつ前記複数の処理部によって前記基板に対する一連の処理を施す基板処理装置において、前記ウエット処理部が、処理液を前記基板に付与して基板処理を行う処理部本体と、前記処理部本体のうち少なくともその周囲を覆って前記処理部本体を外部から遮蔽するとともに、前記基板搬送路に面した位置に、前記基板を前記処理部本体に出し入れするための開口部を有する遮蔽体と、前記開口部を開閉する開閉機構と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/31

FI (5件)：

H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/31 A ,  H01L 21/30 564 D ,  H01L 21/30 569 D