特許

J-GLOBAL ID：200903087700909054

マルチビーム露光装置

発明者： 玉置 英一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-189240
公開番号（公開出願番号）：特開平9-039290
出願日： 1995年07月25日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：

【要約】【課題】 ズームレンズを使用せずに走査線密度を変更できるマルチビーム露光装置を提供する。【解決手段】 ビーム発生部20と結像レンズ30は、複数の露光ビームを、所定方向に一定の間隔aで並ぶ2以上の露光スポットからなるスポット列が所定方向に対して垂直な方向に一定の間隔bでn列配置されているパターンSPとして、感光材料10上に投影させる。モータ50は、ビーム発生部20と結像レンズ30とを回転させ、パターンSPを感光材料10面に垂直な軸RA2のまわりで回転させる。これにより、露光のための走査線密度に対応する画素ピッチが切り換えられる。ここで、目的とする一対の画素ピッチP1、P2に応じて、パターンSPの配列を特定する要素であるa、bを特定条件の下で予め設定しておくので、パターンSPの回転前後において、正確に画素ピッチがP1からP2に変更されることになる。

請求項（抜粋）：

記録面と当該記録面上に2次元的に投影される複数の露光ビームとを相対的に移動させつつ記録のための露光を行うマルチビーム露光装置であって、前記複数の露光ビームを、第1方向に一定の間隔aで並ぶ2以上の露光スポットからなるスポット列が前記第1方向に対して垂直な第2方向に一定の間隔bでn(n≧2)列配置されているスポット配列パターンとして、前記記録面上に投影させる投影手段と、前記スポット配列パターンを前記記録面に垂直な軸のまわりで当該記録面に対して回転させることによって、露光のための走査線密度を切り換える切換え手段と、前記切換え手段による走査線密度の切り換えごとに、各露光ビームを変調するためのデータをそれぞれの露光ビームに割り当てる順序及び遅延時間を変更する制御手段とを備え、前記切換え手段によって切り換えられる前記走査線密度に対応する一対の画素ピッチをP1、P2とした場合に、前記スポット配列パターンにおける前記間隔a及びbが、【数1】の関係を満たし、前記スポット配列パターンにおけるj(2≦j≦n)番目の前記スポット列を構成する各露光スポットの位置が、(j-1)番目の前記スポット列を構成する各露光スポットの位置に対して前記第1方向に距離cだけシフトしており、当該距離cが、【数2】で表されることを特徴とするマルチビーム露光装置。