特許

J-GLOBAL ID：200903087702903053

基板における所望領域の位置決め法

発明者： ウィルヘルムス・マリナス・カルパイジュ
出願人/特許権者： パムジーン・ベー・ベー
代理人 (8件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-512708
公開番号（公開出願番号）：特表2004-504659
出願日： 2001年07月11日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

基板内の少なくとも一領域の信号強度であってバックグランド強度を有するものをコンピュータによって評価する方法において、基板の散乱パラメータを決定する。また、領域及びその周囲を囲む評価ウィンドウ内に位置する画素強度のマトリックス(IS)が決定される。マトリックス(IS)の画素強度は画素強度のヒストグラムを得るのに用いる。この評価ヒストグラムは2つの分布ピークを示す。低い強度の第1の分布ピークは周囲画素に対応し、高い強度の第2の分布ピークは領域画素に対応する。2つの分布ピークを有する曲線はこの評価ヒストグラムでフィッティングされる。散乱パラメータを用いて、散乱についてマトリックス(IS)又はフィッティングされた曲線を補正する。領域での画素信号強度は、画素強度ヒストグラムでフィッティングされた曲線から得られたデータによって決定される。

請求項（抜粋）：

基板に埋め込まれている基板の少なくとも一の領域の信号強度であってバックグランド強度を有するものをコンピュータによって評価する方法において、 基板の散乱パラメータを決定し、前記領域及びその周囲部を囲む評価ウィンドウ内に位置する画素の画素強度のマトリックス(IS)を決定するものであり、ここで、マトリックス(IS)の画素強度は画素強度の評価ヒストグラムを得るのに用いられ、前記評価ヒストグラムは2つの分布ピークを示し、低い強度の第1の分布ピークは前記周囲の画素に対応し、高い強度の第2の分布ピークは前記領域の画素に対応し、2つの分布ピークを有する曲線は前記評価ヒストグラムでフィッティングされ、ここで、散乱パラメータを用いて散乱に対してマトリックス(IS)又はフィッティングされた曲線のいずれかが補正され、前記領域での画素の信号強度は前記評価ヒストグラムでフィッティングされた曲線から得られたデータによって決定されることを特徴とする方法。

IPC (1件)：

G06T7/00

FI (1件)：

G06T7/00 300G

Fターム (8件)：

5L096AA06 ,  5L096BA06 ,  5L096FA32 ,  5L096FA33 ,  5L096FA37 ,  5L096FA60 ,  5L096FA62 ,  5L096FA63