特許
J-GLOBAL ID：200903087720483444
レーザ照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-194270
公開番号（公開出願番号）：特開平5-031354
出願日： 1991年08月02日
公開日（公表日）： 1993年02月09日
要約：
【要約】【目的】 最適なパルス幅をもつパルスレーザビームの照射によってシリコン薄膜の結晶化ができるレーザ照射装置を提供する。【構成】 レーザ発振器LSから出たパルスレーザは光軸A-Bに沿って進む。ビーム分割部分透過ミラーPMによって経路B-Eを通るものとB-C-D-Eを通るものにレーザビームは分割される。複数の経路を経たレーザビームはビーム集光用部分透過ミラーにより同じ光軸に集められる。経路B-Eと経路B-C-D-Eの道のりが異なるため、ビーム分割用部分透過ミラーによって分割された複数のビームは、異なる時間に試料SAに到達する。これにより効果的にシリコン薄膜が結晶化される。
請求項（抜粋）：
レーザビームをパルス発振するレーザ光源部と、このレーザビームのエネルギーを分割するビーム分割用部分透過ミラーと、分割されたレーザビームの光路の長さを調節する鏡と、この分割されたビームを再び同じ光路に集めるビーム集光用部分透過ミラーを備えることを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (5件)：
B01J 19/12
, C23C 16/48
, H01L 21/324
, H01S 3/00
, H01S 3/101
