特許
J-GLOBAL ID：200903087723577768
位相シフト用フォトマスク及びその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-106556
公開番号（公開出願番号）：特開平5-303190
出願日： 1992年04月24日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：
【要約】【目的】 位相シフト用フォトマスクの作製時間を短縮する。また、シフターエッジでの位相反転を急峻にし、解像度を向上する。【構成】 ガラス基板1上に、まずシフトパターン2を形成した後、遮光膜の被着及びパターニングを行なって遮光パターン3を形成する位相シフト用フォトマスクの作製方法と、この作製方法によるシフトパターン2の段差側壁部に遮光パターン3が被着している構造の位相シフト用フォトマスクである。
請求項（抜粋）：
半導体集積回路装置の製造における回路パターンの原版として使用される位相シフト用フォトマスクにおいて、位相シフター境界の段差側壁部に遮光膜が被着していることを特徴とする位相シフト用フォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
