両面マスクの作製方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-108390
公開番号（公開出願番号）：特開2006-285122
出願日： 2005年04月05日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：

【課題】透明基板の両面にパターンを有する両面マスクの作製方法において、透明基板の一方の面に形成されたパターンを保護するための保護層を設けた両面マスクの作製方法を提供することを目的とする。【解決手段】透明基板11の一方の面にメインパターン21aを形成し、透明基板11の他方の面に遮光層22及びレジスト層32を形成し、パターン描画してパターン潜像が形成されたレジスト層32aを形成した後に透明基板11の一方の面に保護層43を形成し、透明基板11の他方の面の遮光層22をパターニング処理して、保護層43を除去し、透明基板11の一方の面にメインパターン21aが、他方の面にパターン22aが形成された両面マスク100を作製する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

透明基板の両面にパターンを有する両面マスクの作製方法であって、少なくとも以下の工程を具備することを特徴とする両面マスクの作製方法。 (a)透明基板の一方の面にパターンを形成する工程。 (b)透明基板の他方の面に遮光層及びレジスト層を形成し、パターン描画する工程。 (c)透明基板の一方の面に保護層を形成する工程。 (d)透明基板の他方の面にパターンを形成する工程。 (e)前記保護層を除去する工程。

IPC (1件)：

G03F 1/08

FI (1件)：

G03F1/08 A

Fターム (6件)：

2H095BB01 , 2H095BB06 , 2H095BB14 , 2H095BB27 , 2H095BC21 , 2H095BC24

引用特許：

出願人引用 (1件)

両面パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-036597 出願人：シャープ株式会社

前のページに戻る