特許
J-GLOBAL ID:200903087728725838
硫黄または窒素含有開始剤向け防臭剤
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 安藤 克則
, 亀岡 幹生
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-523520
公開番号(公開出願番号):特表2005-501149
出願日: 2002年08月19日
公開日(公表日): 2005年01月13日
要約:
スルホニウム塩光開始剤のような硫黄または窒素含有開始剤と防臭剤とを含有している、カチオン重合を開始させるためのカチオン開始剤組成物が開示される。防臭剤は開始におけるスルホニウム塩開始剤の分解によって生じる有機硫黄/メルカプト/チオ臭気のような望ましくない臭気を減少させる。防臭剤はラジカル禁止剤またはフェノール系化合物、たとえば、ヒドロキノンのメチルエーテル、トルヒドロキノン、およびヒドロキノン、であってもよい。この組成物を製造または使用する方法も開示される。組成物は、多数ある中でも、被覆、フォトレジスト、接着、グラフィックアート、およびシーラント技術に用途を有する。
請求項(抜粋):
a)硫黄または窒素含有開始剤、および
b)防臭剤
を含む、カチオン重合を開始させるためのカチオン開始剤組成物であって、防臭剤が開始における開始剤組成物の臭気を減じる上記カチオン開始剤組成物。
IPC (4件):
C08G85/00
, C08F4/00
, G03F7/004
, G03F7/029
FI (4件):
C08G85/00
, C08F4/00
, G03F7/004 501
, G03F7/029
Fターム (28件):
2H025AA00
, 2H025AB14
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AC03
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BC23
, 2H025BC42
, 2H025BD03
, 2H025BD04
, 2H025BD23
, 2H025CA48
, 2H025CC01
, 2H025CC20
, 4J015EA08
, 4J015EA10
, 4J031BB01
, 4J031BB02
, 4J031BC11
, 4J031BD22
, 4J031CA09
, 4J031CA67
, 4J031CA83
, 4J031CB00
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