特許
J-GLOBAL ID：200903087740937760

パラジウム合金メッキ浴

発明者：
ジョセフ アンソニー アビス

ジョセフ アンソニー アビス について

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イリナ ボガスラフスキー

イリナ ボガスラフスキー について

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ヘインリッチ ケー.ストラスチル

ヘインリッチ ケー.ストラスチル について


出願人/特許権者：
ルーセント テクノロジーズ インコーポレイテッド

ルーセント テクノロジーズ インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 三俣 弘文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-114520
公開番号（公開出願番号）：特開平10-046384
出願日： 1997年05月02日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：
【要約】【課題】 パラジウム合金の電気メッキ用の新規なメッキ浴を提供する。【解決手段】 パラジウムと錯体を生成する第1の配位子と、合金化金属と錯体を生成する第2の配位子とからなる混合配位子系を使用するパラジウム合金のための電気メッキ浴。パラジウム用配位子はアンモニア又は有機アミンであり、合金化金属用配位子はモノ、ジ及びテトラカルボン酸からなる群から選択される。合金化金属はメッキ層の硬度を高める。この金属は周期律表VIII族の、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム及びイリジウムからなる群から選択される。本発明のメッキ浴は、連続メッキ処理又はラックメッキ処理で使用される広範囲な電流密度で使用できる。
請求項（抜粋）：
パラジウム塩と、パラジウム塩のための第1の配位子と、卑金属塩と卑金属塩のための第2の配位子と、からなることを特徴とするパラジウム合金メッキ浴。
FI (2件)：
C25D 3/56 Z ,  C25D 3/56 A
引用特許：
審査官引用 (24件)
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