特許

J-GLOBAL ID：200903087743634318

モードロックされたレーザーを使用するポリマー品のレーザーマイクロマシニングのための方法及び装置

発明者： カフカ ジェイムス ディー ,  リ ミンウェイ
出願人/特許権者： スペクトラ-フィジックス インコーポレイテッド
代理人 (4件)： 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  今城 俊夫 ,  西島 孝喜
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-581937
公開番号（公開出願番号）：特表2006-507127
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2006年03月02日
要約：

本発明の目的は、改良型マイクロマシニング装置、及びその使用方法を提供することである。本発明のもう1つの目的は、増大した速度でポリマー材料を切る、又は刻むことのできるダイオード励起固体レーザー、及びその使用方法を提供することである。本発明のこれら及び他の目的は、マイクロマシニング装置で実現される。その装置は、出力ビームを生成する発振器空洞を定める高反射器及び出力カプラーを持つ、モードロックされた赤外線レーザーシステムを含む。利得媒体及びモードロックデバイスは、発振器空洞内に配置される。ダイオード励起源は、利得媒体に入射する励起ビームを生成する。第二高調波生成器が、発振器空洞に結合される。第三高調波生成器が、第二高調波生成器に結合され、UV出力ビームを生成する。出力ビーム方向付け装置は、その出力ビームを物品のポリマー表面に向ける。少なくともポリマー材料の一部が、その出力ビームによりマイクロマシニングされる。

請求項（抜粋）：

出力ビームを生成する発振器空洞を定める高反射器及び出力カプラーと、前記発振器空洞内に配置された利得媒体及びモードロックデバイスと、前記利得媒体に入射する励起ビームを生成するダイオード励起源と、を含むモードロックされた赤外線レーザーシステム、 前記発振器空洞に結合された第二高調波生成器、 前記第二高調波生成器に結合され、UV出力ビームを生成する第三高調波生成器、及び、 前記出力ビームを物品のポリマー表面に向ける出力ビーム方向付け装置、 を備え、前記ポリマー材料の少なくとも一部が前記出力ビームによりマイクロマシニングされる、 ことを特徴とするマイクロマシニング装置。

IPC (7件)：

B23K 26/38 ,  B23K 26/40 ,  B29C 59/16 ,  B81C 5/00 ,  G02F 1/37 ,  H01S 3/098 ,  H01S 3/23

FI (7件)：

B23K26/38 ,  B23K26/40 ,  B29C59/16 ,  B81C5/00 ,  G02F1/37 ,  H01S3/098 ,  H01S3/23

Fターム (35件)：

2K002AA07 ,  2K002AB12 ,  2K002BA02 ,  2K002CA02 ,  2K002HA20 ,  4E068AE00 ,  4E068AF00 ,  4E068CA01 ,  4E068CK01 ,  4E068DB10 ,  4F209AA13 ,  4F209AA28 ,  4F209AA40 ,  4F209AC03 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG05 ,  4F209PA15 ,  4F209PB02 ,  4F209PC06 ,  4F209PC07 ,  5F172AE01 ,  5F172AE03 ,  5F172AE06 ,  5F172AE09 ,  5F172AE12 ,  5F172AF01 ,  5F172AF02 ,  5F172AF06 ,  5F172AF07 ,  5F172DD03 ,  5F172EE13 ,  5F172NN14 ,  5F172NR22