特許
J-GLOBAL ID:200903087766885296

純水製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 本多 小平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-224039
公開番号(公開出願番号):特開平6-063546
出願日: 1992年08月24日
公開日(公表日): 1994年03月08日
要約:
【要約】【目的】 従来の純水製造装置では除去が困難であったTOCを、より効果的に除去すること。【構成】 原水を前処理する前処理装置(1)と、前処理装置の透過水を処理する逆浸透膜装置(6)と、該逆浸透膜装置の透過水を処理する、H型陽イオン交換樹脂層並びにOH型陰イオン交換樹脂とH型陽イオン交換樹脂の混床層を有するイオン交換処理装置(11)とで構成する。
請求項(抜粋):
原水を前処理する前処理装置と、前処理装置の処理水を処理する逆浸透膜装置と、該逆浸透膜装置の透過水を処理する、H型陽イオン交換樹脂層を前段に有し、OH型陰イオン交換樹脂とH型陽イオン交換樹脂の混合層を後段に有するイオン交換処理装置とからなることを特徴とする純水製造装置。
IPC (3件):
C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 9/00
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭60-082186
  • 特開昭60-197289

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