特許
J-GLOBAL ID:200903087767658803

高屈折率を有する有機フォトクロミック材料、その製造方法並びにその材料から形成した製品

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柳田 征史 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-519792
公開番号(公開出願番号):特表平10-510872
出願日: 1995年11月09日
公開日(公表日): 1998年10月20日
要約:
【要約】本発明は、光学品質の高分子マトリクスおよび該マトリクスにフォトクロミック特性を付与する、スピロオキサジン、スピロピランおよびクロメンから選択される少なくとも1つの染料からなる有機フォトクロミック材料に関するものである。マトリクスを構成する高分子は、30-95重量%のエトキシレートビスフェノールAメタクリレートおよび末端にジまたはトリアクリルもしくはジまたはトリメタクリル官能価を有する5-70重量%のポリウレタンオリゴマーのコポリマーである。このようなフォトクロミック材料は、眼鏡用レンズおよび耐日光性レンズの製造に最も適している。
請求項(抜粋):
(a)少なくとも1.54の屈折率を有する光学品質の高分子マトリクス、および (b)該マトリクスにフォトクロミック特性を付与する少なくとも1つの染料からなる有機フォトクロミック材料であって、該染料が、スピロオキサジン、スピロピランおよびクロメンからなる群より選択され、該高分子が、(i)以下の化学式I を有する30-95重量%のエトキシレートビスフェノールAジメタクリレートおよび (ii)末端にジアクリルまたはトリアクリルもしくはジメタクリルまたはトリメタクリル官能価を有する5-70重量%のポリウレタンオリゴマーのコポリマーであることを特徴とするフォトクロミック材料。
IPC (5件):
C08F290/06 ,  G02B 1/04 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/23 ,  C08F220:30
FI (4件):
C08F290/06 ,  G02B 1/04 ,  G02B 5/23 ,  G02B 1/10 Z

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