特許

J-GLOBAL ID：200903087775509108

位置検出方法及び装置、並びに前記位置検出方法を用いた露光方法及び装置

発明者： 水谷 英夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-073475
公開番号（公開出願番号）：特開2001-267211
出願日： 2000年03月16日
公開日（公表日）： 2001年09月28日
要約：

【要約】【課題】 回折格子状マークの非対称性による位置検出誤差を低減し、被検物の位置合わせを高精度に行う。【解決手段】 互いに周波数が異なる2光束L03及びL30をウエハ上に形成された回折格子状マークWMに対して所定の入射角で入射させ、回折格子マークWMから発生する±3次回折光を光電検出器33により検出する。次に、2光束L03及びL30の入射角とは異なる所定の入射角で、互いに周波数が異なる2光束L04及びL40を回折格子状マークWMに対して入射させ、回折格子状マークから発生する±4次回折光を光電検出器33により検出する。±3次回折光を検出して得られるビート信号と±4次回折光を検出して得られるビート信号とに基づいて、回折格子マークWMの断面形状の非対称性による検出誤差を補正し、ウエハの位置合わせを行う。

請求項（抜粋）：

物体上に形成されたマークの位置を計測する位置検出方法であって、所定波長を有する第1の2光束を、前記マークに対して、異なる2方向から第1の入射角で入射せしめ、前記所定波長を有し、前記第1の2光束とは異なる第2の2光束を、前記マークに対して、異なる2方向から前記第1の入射角とは異なる第2の入射角で入射せしめ、前記複数の光束の入射により前記マークから発生した回折ビームに基づいて、前記マークの位置情報を求めることを特徴とする位置検出方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G02B 7/28 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00

FI (6件)：

G01B 11/00 G ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 F ,  G02B 7/11 M ,  H01L 21/30 507 R

Fターム (48件)：

2F065AA03 ,  2F065AA14 ,  2F065BB02 ,  2F065BB28 ,  2F065CC20 ,  2F065DD00 ,  2F065DD02 ,  2F065FF48 ,  2F065FF49 ,  2F065FF52 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065GG04 ,  2F065GG24 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ18 ,  2F065LL00 ,  2F065LL20 ,  2F065LL46 ,  2F065LL57 ,  2F065LL59 ,  2F065NN08 ,  2F065PP12 ,  2F065UU01 ,  2F065UU07 ,  2H051AA10 ,  2H051BA53 ,  2H051BA72 ,  2H051CE12 ,  2H051CE14 ,  2H097CA16 ,  2H097GB00 ,  2H097KA20 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046AA20 ,  5F046BA02 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046DA12 ,  5F046DB05 ,  5F046EA07 ,  5F046EA09 ,  5F046FA06 ,  5F046FA09 ,  5F046FC04