特許
J-GLOBAL ID:200903087781915487
オゾン濃度制御方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
宮田 金雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-132388
公開番号(公開出願番号):特開2000-317284
出願日: 1999年05月13日
公開日(公表日): 2000年11月21日
要約:
【要約】【課題】 オゾン水流量が変動したとき、オゾン水濃度の変動が速やかに収束するオゾン濃度制御方法を提供する。【解決手段】 オゾンを含むオゾン含有ガスを生成するオゾン生成部2と、オゾン含有ガス中のオゾンを被処理水中に溶解しオゾン水を生成するオゾン溶解部1を備えたオゾン製造装置を用いて、オゾン溶解部1の生成するオゾン水のオゾン濃度に基づいてオゾン溶解部1中のオゾン含有ガスの圧力を調節し、オゾン水のオゾン濃度を一定に保つように制御する。
請求項(抜粋):
オゾンを含むオゾン含有ガスを生成するオゾン生成部と、前記オゾン含有ガス中のオゾンを被処理水中に溶解しオゾン水を生成するオゾン溶解部とを備えたオゾン水製造装置のオゾン濃度制御方法において、前記オゾン溶解部の生成するオゾン水のオゾン濃度に基づいて前記オゾン溶解部内の前記オゾン含有ガスの圧力を調節し、前記オゾン水のオゾン濃度を一定に保つように制御することを特徴とするオゾン濃度制御方法。
IPC (4件):
B01F 1/00
, C01B 13/10
, C01B 13/11
, C02F 1/78
FI (4件):
B01F 1/00 A
, C01B 13/10 D
, C01B 13/11 K
, C02F 1/78
Fターム (8件):
4D050AA01
, 4D050BB02
, 4D050BD04
, 4D050BD08
, 4G035AA01
, 4G035AE01
, 4G042CB26
, 4G042CE01
引用特許:
審査官引用 (4件)
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オゾン水生成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-163510
出願人:トキコ株式会社
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特開昭61-291097
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オゾン水製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-021465
出願人:石川島芝浦機械株式会社, 石川島播磨重工業株式会社
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