特許

J-GLOBAL ID：200903087791300758

N-モノ-t-ブチルオキシカルボニルアルキレンジアミンの精製法

発明者： 西口 貴広 ,  水野 正 ,  池平 秀行 ,  南井 正好
出願人/特許権者： 三建化工株式会社 ,  住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-199386
公開番号（公開出願番号）：特開平8-059595
出願日： 1994年08月24日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】N-モノ-t-ブチルオキシカルボニルアルキレンジアミンの工業的に有利な精製法を提供すること。【構成】N-モノ-t-ブチルオキシカルボニルアルキレンジアミンとN,N’-ジ-t-ブチルオキシカルボニルアルキレンジアミンの混合物をpH5〜2に調整し、有機層と水層を分離し、次いで水層を有機溶媒で洗浄後、pH10以上に調整する一般式1のN-モノ-t-ブチルオキシカルボニルアルキレンジアミンの精製法。(Rは水素原子または低級アルキル基を、nは1〜3の整数を示す。)

請求項（抜粋）：

一般式〔1〕(式中、Rは、水素原子または低級アルキル基を示し、nは、1〜3の整数を示す。)で示されるN-モノ-t-ブチルオキシカルボニルアルキレンジアミンと一般式〔2〕(式中、Rおよびnは、前記と同じ意味を表わす。)で示されるN,N’-ジ-t-ブチルオキシカルボニルアルキレンジアミンの混合物をpH5〜2に調整し、有機層と水層を分離し、次いで水層を有機溶媒で洗浄後、pH10以上に調整することを特徴とする一般式〔1〕で示されるN-モノ-t-ブチルオキシカルボニルアルキレンジアミンの精製法。

IPC (2件)：

C07C271/20 ,  C07C269/08