特許
J-GLOBAL ID:200903087815038677
放射光発生装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-306261
公開番号(公開出願番号):特開平5-144598
出願日: 1991年11月21日
公開日(公表日): 1993年06月11日
要約:
【要約】【目的】 放射光強度が一定でしかも各電子蓄積リングの立ち上げ時間を短くすることができる多数の電子蓄積リングを備えた放射光発生装置を提供する。【構成】 放射光発生装置は、電子ビ-ム発生器(1)から出射した電子ビ-ムを輸送するビーム輸送部(2)に配置された分岐用電磁石(11)を介して複数の電子蓄積リング(3)に送り、これらの電子蓄積リング(3)における電子ビ-ムの加速に伴って光(9)を発生する。各々の電子蓄積リング(3)に発生する放射光(9)の強度に関する量を検出し所定の設定値と比較し放射光の強度が一定になるように制御する制御手段(13)を備え、この制御手段(13)は各々の電子蓄積リング(3)の入射用バンプ電磁石(17a、17b)の励磁量あるいは入射用バンプ電磁石(17a、17b)のタイミングを制御して電子蓄積リング(3)へ追加される追加入射電流量を制御することを特徴とする。
請求項(抜粋):
電子ビーム発生器から出射した電子ビームを輸送するビーム輸送部に配置された分岐用電磁石を介して複数の電子蓄積リングに送り、これらの電子蓄積リングにおける電子ビームの加速に伴って光を発生する放射光発生装置において、各々の前記電子蓄積リングに発生する放射光の強度に関する量を検出し所定の設定値と比較し前記放射光の強度が一定になるように制御する制御手段を備え、この制御手段は各々の前記電子蓄積リングの入射用バンプ電磁石の励磁量あるいは入射用バンプ電磁石のタイミングを制御して前記電子蓄積リングへ追加される追加入射電流量を制御することを特徴とする放射光発生装置。
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