特許

J-GLOBAL ID：200903087823436541

3層リソグラフィプロセスおよびその製造物

発明者： デイビッド アーサー ビドゥセック
出願人/特許権者： シャープ株式会社 ,  シャープ・マイクロエレクトロニクス・テクノロジー・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-183995
公開番号（公開出願番号）：特開平6-188185
出願日： 1993年07月26日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：

【要約】【目的】 高解像度のイメージ投影システムの適用を可能とすることのできる3層リソグラフィプロセスおよびその製造物を提供する。【構成】 本発明の3層リソグラフィ構造体は、(a)基板10上に堆積された平坦化層12、(b)平坦化層12の上に形成された化学蒸着の層間膜20、および(c)層間膜20の上に堆積された、1μmまたはそれ以下の厚さを有する感光性レジスト層130を備える。また、本発明の高解像度ホトリソグラフィ方法は、(a)平坦化層12を基板10上に堆積する工程、(b)層間膜20を平坦化層12の上に化学蒸着する工程、および(c)1μmまたはそれ以下の厚さの感光性レジスト層130を層間膜20の上に形成する工程を包含する。

請求項（抜粋）：

(a)基板上に堆積された平坦化層、(b)該平坦化層の上に形成された化学蒸着の層間膜、および(c)該層間膜の上に堆積された、1μmまたはそれ以下の厚さを有する感光性レジスト層、を備えた3層リソグラフィ構造体。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26 511

FI (2件)：

H01L 21/30 361 S ,  H01L 21/30 361 L

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平2-008852
  
• 特開平2-224240
  
• 特開昭61-131448
  
• 特開昭61-065429
  
• 特開平2-010363