特許
J-GLOBAL ID：200903087825220210
マスク保持方法、マスク及びマスクチャック、ならびにこれを用いた露光装置とデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-299912
公開番号（公開出願番号）：特開平7-153663
出願日： 1993年11月30日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：
【要約】【目的】 高精度なパターン転写が可能なX線マスクの保持方式を提供すること。【構成】 X線マスクの支持フレーム1のリング中心を中心とする円周上に等間隔で3か所(120°ピッチ)に、半径方向に沿ったV溝部4を形成する。一方、マスクチャック側には、先端が球面上の突起部であるマウント7を3か所に設け、これらV溝部と突起部とを係合させて、該3か所でマスクをマスクチャックに保持する。
請求項（抜粋）：
露光用マスクのマスク保持面の少なくとも3ケ所に設けたV溝部もしくは突起部と、マスクチャック保持面の少なくとも3ケ所に設けた突起部もしくはV溝部とを係合させて、該3か所でマスクを保持することを特徴とするマスク保持方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 1/14
