特許
J-GLOBAL ID：200903087832592564
連続堆積装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-338006
公開番号（公開出願番号）：特開2001-237296
出願日： 2000年11月06日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：
【要約】【課題】 基板、特に比較的平坦なガラス基板を処理する改良された装置および方法を提供する。【解決手段】 本発明は全般に少なくとも1つのプロセスチャンバ96に主に配設されたキャリア122と、該プロセスチャンバ96とロードロックチャンバ92、94間で基板114、115、116を搬送する少なくとも1つのシャトル118、120とを有する基板処理装置を提供する。複数のプロセスチャンバ、ロードロックチャンバ、その他のチャンバは結合され、基板を処理する系列モジュラチャンバを形成可能である。キャリアは処理環境に露出するだけ、すなわちキャリアは非プロセスチャンバ内を往復しないのが好ましい。よって、基板の連続シーケンス処理中、キャリアの熱循環が低減される。キャリアはトラック123,125に沿ってプロセスチャンバ内を可逆的に移動される。隔壁によって離隔された多数の処理区域によって複数の処理状態が同一プロセスチャンバ内に発生可能となる。
請求項（抜粋）：
基板処理装置であって、前記装置は:a)少なくとも1つのプロセスチャンバと;b)前記プロセスチャンバに結合された少なくとも1つのロードロックチャンバと;c)前記ロードロックチャンバ内に配設されプロセスチャンバに連通可能なシャトルと;d)前記少なくとも1つのプロセスチャンバに主に配設されプロセスチャンバ内でのみ動作するよう構成された基板キャリアと、を備える、基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, B65G 49/06
, B65G 49/07
H01L 21/68 A
, B65G 49/06 Z
, B65G 49/07 C
