特許
J-GLOBAL ID：200903087837473903
真空ラミネート装置および真空ラミネート方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-204196
公開番号（公開出願番号）：特開平9-051114
出願日： 1995年08月10日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：
【要約】【課題】 簡易な構造で、大面積化および処理時間の短縮化の可能な真空ラミネート装置および真空ラミネート方法を得る。【解決手段】 筒管102が環状体とされこの環状体の内周側の壁に複数の脱気孔105が形成される。この環状体は板状の基材101上へ据付け固定され、基材101と環状体とでラミネート処理のための空間部を構成する。空間部へは蓋部材107が覆いかぶされ、形成された空間部は真空引きされる。この真空引きを維持しつつラミネート処理空間を加熱処理する。この簡潔・単純な処理によりラミネート処理空間に配置された材料へラミネート処理を行うことができる。
請求項（抜粋）：
筒管が環状体とされ該環状体の内周側の壁に複数の脱気孔を有する環状体と、該環状体が据付け固定された基材とを有する真空ラミネート装置において、前記環状体の全面を覆う蓋部材をさらに有し、該蓋部材と前記環状体と基材とでラミネート処理のための空間部を形成し、該空間部を真空引きすることを特徴とする真空ラミネート装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 31/04 F
, H01L 31/04 R
