特許
J-GLOBAL ID：200903087839695628
断面加工観察用荷電ビーム装置および加工方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
林 敬之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-016633
公開番号（公開出願番号）：特開平6-231719
出願日： 1993年02月03日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：
【要約】【目的】 試料の特定個所の透過電子顕微鏡用試料の作成を簡単でより適切な形状に加工し、その場で観察・分析できるようにする。【構成】 透過電子顕微鏡の電子ビーム7に対して、横方向から集束イオンビーム2を試料4に照射するイオン光学系を配置し、イオンビームエッチングで透過型電子顕微鏡用試料の作成をする。ビーム2、7の励起による二次電子を二次電子検出器により検出し、試料の加工位置・加工形状・断面の確認をする。試料4を透過した電子ビーム7を透過電子検出器12で検出し、微小部の観察を行う。また、電子ビーム冷気によるX線をX線検出器10で検出し、微小部の分析を行う。
請求項（抜粋）：
電子ビームを発生する電子銃と、前記電子ビームを細く絞り、試料面に照射する電子ビームレンズ系と、前記試料を透過した電子ビームを拡大する拡大レンズ系と、前記拡大レンズ系により拡大された電子ビームを蛍光板に投影して極微観察する透過電子検出器と、前記電子ビームの試料照射方向に対して直角にイオンビームを発生するイオン銃と、前記イオンビームを集束しかつ走査させながら前記電子ビームの試料照射方向に対して直角に前記試料に照射するイオン光学系と、前記電子ビーム照射および前記集束イオンビーム照射により前記試料から放出される二次電子およびX線を捕らえる二次電子検出器とX線検出器とからなることを特徴とする断面加工観察用荷電ビーム装置。
IPC (3件)：
H01J 37/30
, H01J 37/244
, H01J 37/28
