特許

J-GLOBAL ID：200903087849521911

ホトマスク及びこれを用いたパターン形成方法

発明者： 神保 秀之 ,  河津 佳幸 ,  山下 吉雄
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-219080
公開番号（公開出願番号）：特開平5-061180
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：

【要約】[目的] 断面がオーバーハング形状のレジストパタンの当該オーバーハング形状を非対称なものとできるホトマスク及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。[構成] 石英ガラス基板27に設けた遮光部23の周囲の所定部分に、露光光の透過率が遮光部23の透過率より大きくかつ石英ガラス基板の遮光部23を設けていない部分の透過率より小さい減光部25を、設ける。減光部25は、個別遮光パターン25aを投影露光光学系の解像限界以下のピッチで配列したパターンで構成する。遮光部23は従来の遮光膜及びまたは位相シフト法用シフタのエッジラインで構成する。このホトマスク21を介しレジストを露光する。

請求項（抜粋）：

光透過性を有する基板の一部に遮光部を具えるホトマスクにおいて、光透過性を有する基板の遮光部の周囲の所定部分に、露光光の透過率が前記遮光部の透過率より大きくかつ前記基板の前記遮光部を設けていない部分の透過率より小さい減光部を、具えたことを特徴とするホトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-113062
  
• 特開平2-090161
  
• 特開平3-142466