特許

J-GLOBAL ID：200903087851285885

出席状況管理システム、出席状況管理システム用プログラム、及び出席状況管理システム用プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体

発明者： 内田 智史
出願人/特許権者： 学校法人神奈川大学
代理人 (2件)： 大貫 和保 ,  小竹 秋人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-357599
公開番号（公開出願番号）：特開2005-122523
出願日： 2003年10月17日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：

【課題】コストの増加を抑えつつ、効率的且つ正確な出席状況の管理を可能にする。【解決手段】講義等における出席状況を管理するための出席状況管理システムであって、各種情報を記憶するマスタデータベース、複数の記号又は文字からなる暗証番号を作成する暗証番号作成手段、前記暗証番号と前記講義等に関する情報とを関連付けて前記マスタデータベースに記憶させる情報関連付け手段、任意の記号又は文字の入力を可能にする番号入力手段、前記番号入力手段により入力された入力番号を検知する入力番号検知手段、前記入力番号と前記暗証番号とを照合する番号照合手段、前記番号照合手段による照合結果に基づいて出席状況を判定する判定手段を備えて構成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

講義等における出席状況を管理するための出席状況管理システムであって、 各種情報を記憶するマスタデータベース、 複数の記号又は文字からなる暗証番号を作成する暗証番号作成手段、 前記暗証番号と前記講義等に関する情報とを関連付けて前記マスタデータベースに記憶させる情報関連付け手段、 任意の記号又は文字の入力を可能にする番号入力手段、 前記番号入力手段により入力された入力番号を検知する入力番号検知手段、 前記入力番号と前記暗証番号とを照合する番号照合手段、 前記番号照合手段による照合結果に基づいて出席状況を判定する判定手段、 を備えて構成されることを特徴とする出席状況管理システム。

IPC (2件)：

G06F17/60 ,  G06F15/00

FI (2件)：

G06F17/60 128 ,  G06F15/00 330B

Fターム (7件)：

5B085AA08 ,  5B085AE15 ,  5B085AE23 ,  5B085AE29 ,  5B085BG01 ,  5B085BG02 ,  5B085BG07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 出欠管理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-334065   出願人：大日本印刷株式会社