特許

J-GLOBAL ID：200903087851441607

回転式基板処理装置における基板の有無検出装置

発明者： 杉本 憲司 ,  武岡 正史
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-355185
公開番号（公開出願番号）：特開平5-175315
出願日： 1991年12月19日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：

【要約】【目的】 基板の種類や処理形態の違いにかかわらず、基板載置プレート上の基板の有無を的確に検出できるようにする。【構成】 基板Wの外周縁の水平方向への移動を規制する状態で基板Wを載置する基板載置プレート2を鉛直軸芯P周りで回転可能に設け、その基板載置プレート2の上面に、回転方向において反射率を異ならせた高反射域6aと低反射域6bとを形成し、基板載置プレート2の上方箇所に、高反射域6aと低反射域6bとに光ビームを投射する光源7と、高反射域6aまたは低反射域6bで反射した光ビームを受光して受光信号を出力する受光器8とを設け、その受光器8からの受光信号に基づき、コントローラ15により高反射域6aおよび低反射域6bからの反射状態を検知して基板Wの有無を判別する。

請求項（抜粋）：

基板の外周縁の水平方向への移動を規制する状態で基板を載置する基板載置プレートを鉛直軸芯周りで回転可能に設けた回転式基板処理装置における基板の有無検出装置であって、前記基板載置プレートの上面に、回転方向において相対的に反射率が異なる高反射域と低反射域とから成る基板検出部を形成し、前記基板載置プレートの上方箇所に、前記基板検出部に光ビームを投射する光源と、前記基板検出部で反射した光ビームを受光して受光信号を出力する受光器とを設け、前記受光器からの受光信号に基づき、前記基板載置プレートの回転に伴って、前記高反射域と低反射域の形成パターンに対応する反射光の変動特性を検出することに基づいて、前記基板載置プレート上に基板が無いと判定する手順により、基板の有無を判別するコントローラを備えたことを特徴とする回転式基板処理装置における基板の有無検出装置。