特許
J-GLOBAL ID:200903087852454796

液晶積層複合体とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-334220
公開番号(公開出願番号):特開2006-142599
出願日: 2004年11月18日
公開日(公表日): 2006年06月08日
要約:
【課題】本発明は、通常の状態では反射・回折光が互いに干渉して再生されるホログラム画像や回折格子画像等の画像が観察されるのみであるが、専用の検証媒体を介して観察したときのみにその内容の確認が可能な潜像を有し、しかもその偽造防止効果をより高めた潜像記録媒体としての液晶積層複合体とその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】基材上に光化学的に配向し得る配向層が設けてあり、光配向された前記配向層上の少なくとも一部に高分子液晶層をパターン状に設けてなることを特徴とする液晶積層複合体およびその製造方法である。【選択図】図4
請求項(抜粋):
基材上に光化学的に配向し得る配向層が設けてあり、光配向された前記配向層上の少なくとも一部に高分子液晶層をパターン状に設けてなることを特徴とする液晶積層複合体。
IPC (4件):
B32B 7/02 ,  B32B 27/00 ,  G02B 5/30 ,  G02B 5/32
FI (4件):
B32B7/02 103 ,  B32B27/00 E ,  G02B5/30 ,  G02B5/32
Fターム (32件):
2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BC05 ,  2H049BC09 ,  2H049BC22 ,  2H049CA01 ,  2H049CA05 ,  2H049CA09 ,  2H049CA15 ,  2H049CA22 ,  4F100AB10 ,  4F100AK01C ,  4F100AK42 ,  4F100AR00D ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100EH66 ,  4F100GB90 ,  4F100HB00C ,  4F100HB31C ,  4F100JN01A ,  4F100JN06A ,  4F100JN10B ,  4F100JN18E ,  4F100JN30B ,  4F100JN30C
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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