特許
J-GLOBAL ID：200903087854972999

水性コロイドシリカ分散液からの直接的疎水性シリカの製造法

発明者：
アダムス,カーティス イー.

アダムス,カーティス イー. について


出願人/特許権者：
キャボット コーポレイション

キャボット コーポレイション について


代理人 (4件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-538024
公開番号（公開出願番号）：特表2008-516889
出願日： 2005年10月20日
公開日（公表日）： 2008年05月22日
要約：
本発明は、(a)親水性シリカ粒子が表面シラノール基を有する約10〜1000nmの平均全粒子径を有する親水性シリカ粒子を約5〜70重量%含む水性コロイドシリカ分散液を用意し、(b)前記分散液を、約7以上のpHを有しかつ約50重量%以下の有機溶媒を含む反応混合物を与えるために約3〜75μmol/m2(親水性シリカ粒子のBET表面積に基いて)のシリルアミン処理剤と場合により他の成分とを混ぜ合わせ、そして(c)疎水性のシリカ粒子を与えるために分散液を乾燥する、ことを含む疎水性シリカ粒子の製造法を提供する。さらに、この発明はトナー組成物を提供するために上述の疎水性シリカ粒子をトナー粒子と混ぜ合わせることを含むトナー組成物の製造法を提供する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)約10〜1000nmの平均全粒子径を有する親水性シリカ粒子を約5〜70重量%含む水性コロイドシリカ分散液を用意し、 (b)前記分散液を、約7以上のpHを有しかつ約50重量%以下の有機溶媒を含む反応混合物を与えるために約3〜75μmol/m2(親水性シリカ粒子のBET表面積に基いて)のシリルアミン処理剤と混ぜ合わせ、そして (c)疎水性のシリカ粒子を与えるために分散液を乾燥する、 ことを含む疎水性シリカ粒子の製造法。
IPC (6件)：
C01B 33/18 ,  B01J 2/04 ,  C09D 7/12 ,  C09D 201/00 ,  C08K 3/36 ,  C08L 101/00
FI (6件)：
C01B33/18 C ,  B01J2/04 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00 ,  C08K3/36 ,  C08L101/00
Fターム (30件)：
4G004EA08 ,  4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072CC16 ,  4G072DD05 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072EE07 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH18 ,  4G072HH33 ,  4G072LL15 ,  4G072MM01 ,  4G072RR07 ,  4G072RR12 ,  4G072TT01 ,  4G072TT05 ,  4G072TT30 ,  4G072UU07 ,  4G072UU30 ,  4J002AC001 ,  4J002CD001 ,  4J002CP031 ,  4J002DJ016 ,  4J002FB146 ,  4J002GH01 ,  4J002GJ01 ,  4J038HA446
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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