特許

J-GLOBAL ID：200903087860604560

ビスフェノールAの製造方法

発明者： 大久保 英主 ,  高井 敏浩
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-103369
公開番号（公開出願番号）：特開2000-290208
出願日： 1999年04月09日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】【課題】スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基を共に有する有機高分子シロキサン触媒の存在下、アセトンとフェノールの脱水縮合によりビスフェノールAを固定床流通反応装置で製造する方法において、触媒寿命を向上させる方法を提供する。【解決手段】アセトンとフェノールからなる原料混合物中に、原料混合物に対して0.5〜5.0重量%の水を添加し、反応させる。

請求項（抜粋）：

スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基を共に有する有機高分子シロキサンの存在下、アセトンとフェノールとの脱水縮合によりビスフェノールAを固定床流通反応装置で製造するに際し、原料混合物中に原料混合物に対して0.5〜5.0重量%の水を存在させることを特徴とするビスフェノールAの製造方法。

IPC (4件)：

C07C 37/20 ,  B01J 31/10 ,  C07C 39/16 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07C 37/20 ,  B01J 31/10 Z ,  C07C 39/16 ,  C07B 61/00 300

Fターム (28件)：

4G069AA15 ,  4G069BA22A ,  4G069BA22B ,  4G069BA24A ,  4G069BA24B ,  4G069BE21A ,  4G069BE21B ,  4G069BE22A ,  4G069BE22B ,  4G069BE32A ,  4G069BE32B ,  4G069CB25 ,  4G069DA06 ,  4H006AA02 ,  4H006AC25 ,  4H006BA28 ,  4H006BA29 ,  4H006BA52 ,  4H006BA53 ,  4H006BA55 ,  4H006BC37 ,  4H006BD80 ,  4H006FC52 ,  4H006FE13 ,  4H039CA19 ,  4H039CA41 ,  4H039CD10 ,  4H039CD40